上海新阳获得发明专利授权：“一种光敏剂及含其的i线光刻胶和制备方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示上海新阳（300236）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种光敏剂及含其的i线光刻胶和制备方法”，专利申请号为CN202111187564.7，授权日为2025年11月11日。

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专利摘要：本发明公开了一种光敏剂及含其的i线光刻胶和制备方法。本发明公开的光敏剂，其由光敏剂A和光敏剂B组成。采用本发明的光敏剂制得的i线光刻胶组合物在用于i线光刻时得到的光刻胶图形光敏性和分辨率高。

今年以来上海新阳新获得专利授权30个，较去年同期减少了18.92%。结合公司2025年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了1.22亿元，同比增25.4%。

通过天眼查大数据分析，上海新阳半导体材料股份有限公司共对外投资了28家企业，参与招投标项目73次；财产线索方面有商标信息10条，专利信息422条，著作权信息2条；此外企业还拥有行政许可105个。

数据来源：天眼查APP

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