拉普拉斯获得实用新型专利授权：“处理设备及处理系统”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拉普拉斯（688726）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“处理设备及处理系统”，专利申请号为CN202421859814.6，授权日为2025年5月13日。

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专利摘要：本申请属于半导体及光伏加工设备领域，涉及一种处理设备及处理系统，处理设备包括具有内部空间的反应室，反应室的至少一室壁由加热组件构成，加热组件被配置为加热内部空间的片状材料。加热组件包括第一壳体和加热件，第一壳体的壁被配置为反应室的室壁，第一壳体设置有真空腔，加热件安装于真空腔内。该处理设备采用加热组件作为反应室的室壁，由于加热件位于真空腔中，且真空腔具有隔热保温的特性，有利于提高加热效率。

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今年以来拉普拉斯新获得专利授权66个。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了2.96亿元，同比增27.5%。

数据来源：天眼查APP

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