拉普拉斯获得实用新型专利授权：“干法清洗装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拉普拉斯（688726）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“干法清洗装置”，专利申请号为CN202421519636.2，授权日为2025年4月22日。

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专利摘要：本申请提供了一种干法清洗装置，涉及光伏设备清洗领域，解决了干法清洗装置对工件清洁效果较差的技术问题。该干法清洗装置包括：腔体，具有工艺腔室，工艺腔室被配置为容纳工件；气体输送装置，被配置为提供清洁气体；微波生成组件，被配置为对至少部分清洁气体电离产生等离子体，其中，等离子体被配置为对工件的表面进行清洁；至少两个相对设置的极板，设置于工艺腔室内，被配置为将工艺腔室内的清洁气体电离为等离子体。由于微波生成组件和极板都可以电离清洁气体生成等离子体，相较于使用单一的等离子体生成装置，提高了将清洁气体电离为等离子体的电离率，从而可以提升对工件的清洁效果。

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今年以来拉普拉斯新获得专利授权55个。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了2.96亿元，同比增27.5%。

数据来源：天眼查APP

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